In this thesis a photolithographic technique is presented to make optical diffractive phase elements using a photopolymer based on the optical adhesive Norland NOA63. The technique consists of using amplitude masks (photographic plates) of diffractive objects previously designed to transfer this information to the photopolymer. An important feature of this photopolymer is that it does not need a process of chemical development, but this corresponds only to the photocuring process. The phase modulation in the curing process is mainly due to differences in the refractive index of the adhesive and in the relief. This material presents good capacity to record information, with good resolution and high quality. These properties are attractive, because it opens the possibility of controlling the phase modulation of the material by only controlling the curing process. In addition the process is very simple and does not need sophisticated equipment for its realization.
En ésta tesis se presenta una técnica fotolitográfica para fabricar elementos ópticos difractivos de fase usando un fotopolímero basado en el adhesivo óptico Norland NOA63. La técnica consiste en usar mascarillas de amplitud (placas fotográficas) de objetos difractivos previamente diseñados para transferir ésta información al fotopolímero. Una característica importante de este fotopolímero es que no necesita de un proceso de revelado químico, sino que esto corresponde solamente al proceso de fotocurado. La modulación de fase en el proceso de curado es debida principalmente a las diferencias en el índice de refracción del adhesivo y en el relieve. Este material presenta buena capacidad para grabar información, con buena resolución y alta calidad. Estas propiedades son atractivas, debido a que abre la posibilidad de controlar la modulación de fase del material con sólo controlar el proceso de curado. Además el proceso es muy sencillo y no se necesita de equipo sofisticado para su realización.
