Determinación del perfil de deposición de titanio en la técnica de Sputtering por caracterización óptica

Abstract

The development of materials that simultaneously combine specific properties for highly specialized applications has become a challenge for materials science. For certain types of applications, such as the optoelectronic industry, materials have been investigated and produced in the form of very thin films, combining high electrical conductivity with transmittance, properties that are not easy to find in other materials. This research focused on the determination and characterization of the Sputtering system by depositing titanium on glass substrates. To this end, thin films were created by controlling parameters such as: height (distance from the source to the substrate), pressure of the reactive gas, time of deposition as well as the voltage with which the plasma was created in the deposition chamber. An optical characterization was performed on the films created, which consisted of a transmission spectrometry arrangement, to determine how the system deposits materials on substrates, and by means of an interferometric arrangement qualitatively determine the thickness of the growths.

El desarrollo de materiales que reúnen simultáneamente propiedades específicas para aplicaciones muy especializadas, se ha convertido en un reto para la ciencia de materiales. Para ciertas clases de aplicaciones, como el caso de la industria optoelectrónica, se han venido investigando y produciendo materiales en forma de películas muy delgadas, que combinan alta conductividad eléctrica con transmitancia, propiedades que no son fáciles de encontrar en otros materiales. Este trabajo de investigación se enfocó en la determinación y caracterización del sistema de Sputtering al depositar titanio sobre substratos de vidrio. Para ello se crearon películas delgadas controlando parámetros tales como: altura (distancia de la fuente al substrato), presión del gas reactivo, tiempo de deposición así como el voltaje con el cual se creaba el plasma en la cámara de deposición. A las películas creadas, se le realizó una caracterización óptica, la cual consistió en un arreglo de espectrometría de transmisión, para determinar como el sistema deposita materiales sobre substratos, y por medio de un arreglo interferométrico determinar cualitativamente el espesor de los crecimientos.