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Estudio de la estructura de bandas electrónica y fonónica en una monocapa de siliceno

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dc.rights.license http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.contributor.advisor Navarro Chávez, Oracio
dc.contributor.advisor Viramontes Gamboa, Gonzalo
dc.contributor.author Bedoya Trujillo, Ivan Felipe
dc.date.accessioned 2021-05-20T18:04:06Z
dc.date.available 2021-05-20T18:04:06Z
dc.date.issued 2019-08
dc.identifier.uri http://bibliotecavirtual.dgb.umich.mx:8083/xmlui/handle/DGB_UMICH/3308
dc.description Facultad de Ciencias Físico Matemáticas. Maestría en Ciencias en Ingeniería Física es_MX
dc.description.abstract Silicon has been used as an industrial material since last century, it is a base material for different devices, covering a wide range of technological applications. Silicene is a silicon’s two-dimensional allotrope which exhibits interesting properties, showing spin-orbit coupling. In this work, plane and buckled silicene’s electronic and vibrational properties are studied using computational methods based on Density Functional Theory by Local Density Approximation. It will be used the QUANTUM ESPRESSO codes suite to perform density of states, electronic band structure and phonon dispersion curves. Results show a gap of 1.48 meV for the buckled structure of 0.43 Å and the appearing of a phonon gap at the structure with 0.5 Å of buckle. en
dc.description.abstract El silicio ha sido usado como un material industrial desde el último siglo, es la base de diversos dispositivos, cubriendo un amplio rango de aplicaciones tecnológicas. El siliceno es un alótropo bidimensional del silicio con propiedades muy interesantes, presentando interacción espín-órbita. En este trabajo se estudian principalmente las propiedades electrónicas y fonónicas del siliceno, plano y corrugado, haciendo uso de métodos computacionales basados en la Teoría del Funcional de Densidad, mediante la Aproximación de Densidad Local. Con este fin, se hará uso de la suite de códigos QUANTUM ESPRESSO para calcular la densidad de estados, la estructura de bandas electrónica y las curvas de dispersión fonónica. Los resultados muestran un gap de 1.48 meV para la estructura con 0.43 Å de corrugación y la aparición de un gap fonónico en la estructura con 0.5 Å de corrugación. es_MX
dc.language.iso spa es_MX
dc.publisher Universidad Michoacana de San Nicolás de Hidalgo es_MX
dc.rights info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subject info:eu-repo/classification/cti/1
dc.subject FISMAT-M-2019-1314 es_MX
dc.subject Densidad de estados es_MX
dc.subject Estructura de bandas es_MX
dc.subject Teoría del funcional de densidad es_MX
dc.title Estudio de la estructura de bandas electrónica y fonónica en una monocapa de siliceno es_MX
dc.type info:eu-repo/semantics/masterThesis es_MX
dc.creator.id BETI920109HNEDRV06
dc.advisor.id NXCO610115HMNVHR08|VIGG710604HZSRMN00
dc.advisor.role asesorTesis|asesorTesis


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